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Adobe Substance 3D Painter 7 功能强大的3D绘画软件

软件发布员 电脑软件 2022-04-22 10:04:20 246 0

软件将项目结果导出为位图纹理,这些纹理文件是从项目的每个纹理集中存在的每个通道创建的,它们可以根据特定的预设进行混合。默认情况下提供多个预设,但也支持用户创建新预设,软件的界面友好,可以对面板进行自定义的调整和排序,以符合您的使用习惯,提供丰富的绘画工具,快速进行您想要的绘制。

安装教程

1、下载解压文件

2、点击exe文件

3、选择安装路径

4、创建图标

5、点击安装

6、安装中,请稍候

7、安装完成

功能特色

1、烘烤

烘焙是指将基于网格的信息转换为纹理的动作。然后着色器和/或物质过滤器读取这些信息以执行高级效果。例如,智能材料和智能面具依赖于它们。

2、效果

的影响是一组各种的动作,可以在被施加所述内容或者所述掩模一个的层中物质的三维画家的层堆叠。

它们允许从简单的颜色变化到复杂的蒙版创作的无限系列变化。默认情况下,多重效果随Adobe Substance 3D Painter 2021一起提供,但您也可以在中创建自己的效果。

通过右键单击任何图层或蒙版,或单击图层堆栈窗口顶部的专用按钮,可以将效果添加到堆栈中。

大多数效果具有混合模式和不透明度,就像常规图层一样,可以重新排序,允许您创建完整的效果堆栈以创建复杂的蒙版。

3、智能材料和面具

支持使用高级图层预设。这些预设可用于在纹理集或项目之间快速共享类似的纹理处理过程,同时保持不同的结果,适应网格拓扑。

4、自动UV展开

可以在导入网格时自动展开没有任何现有UV的网格。

5、紫外线重投影

UV重投影是一个自动过程,在您更改纹理分辨率或导入新网格时会发生。

如果您在文档中加载新网格(通过项目配置窗口),您的所有操作都将重新投影到该新网格上。拓扑是否发生变化(只要相似)或UV是否发生变化都没有关系。由于重新投影通过重新计算所有图层和笔触进行工作,因此可能需要一些时间(尤其是在高纹理分辨率下)。

6、紫外线瓷砖

UV平铺是一种在纹理集内跨多个UV范围对多组纹理进行纹理化的方法。

默认情况下,传统工作流程会在每个UV范围内重复纹理。使用UV Tiles,每个范围都变成了一个专用的纹理。此工作流程允许通过将UV拆分为多组纹理来虚拟地提高一般纹理分辨率。UV Tiles目前仅支持UDIM命名约定。

7、后期处理

后期效果是可以应用于在视口中渲染的图像的过滤器,以模拟常见的相机效果。

后期处理效果由中间件Yebis提供支持。效果可以单独启用,但必须首先启用主要的后期处理系统。

8、次表面散射

在其实时视口和Iray渲染器中都支持次表面散射。

次表面散射是光穿透物体或表面时的一种机制。一部分光被材料吸收,然后在内部散射,而不是像金属表面那样被反射。这种行为往往是下的首字母缩写称为SSS为“小号UB小号urface小号cattering”。现实生活中的许多材料都有次表面散射,例如皮肤或蜡。

9、渲染器

Iray是Nvidia开发的GPU加速路径跟踪渲染器。

使用Iray,可以在场景中以高清晰度(大分辨率)创建具有高精度照明的图像。

10、插件

有一个专用的脚本API,允许创建自定义插件来添加自定义功能和行为。

该插件是用Javascript编写的,可以与QML语言结合在应用程序中创建自定义界面。

11、动态材质分层

动态材质分层是一种特定的工作流程,其中通用材质在着色器内混合在一起,而不是混合到单个纹理中。此工作流程的主要优点是混合是动态的,并允许通过在着色器内耕种通用材质来控制和保持一定水平的质量。虽然材质是通用的,但用于混合材质的遮罩特定于网格,因此不再重复。

12、稀疏虚拟纹理

在其实时视口中使用稀疏虚拟纹理(SVT)来管理大量纹理。该技术允许仅从给定的角度输入和输出纹理,以便在GPU内存上保持特定的占用空间。它提高了具有大量纹理集(或UDIM)的项目的性能。

13、自定义着色器

使用着色器在其实时视口中渲染材质。

可以编写自定义着色器来实现新行为或简单地使视口与其他渲染器匹配。的其他着色器可以在Share上找到。

新功能

1、新建资产窗口

旧的Shelf窗口已改进并重命名为Assets窗口。这种重新设计的重点是使用新的专用图标使内容更快速地访问和更容易过滤。它还配备了带有面包屑的更简单的导航系统。这种重新设计还侧重于使体验类似于其他软件,以便更轻松地跨应用程序管理内容。

新设计和布局

新设计注重简单性,同时也更容易组织窗口。窗口现在可以垂直停靠而不会浪费空间。新的“列表”显示模式允许更轻松地按名称搜索资产。

新的面包屑导航

导航资源有时在很小的UI中很难。现在使用面包屑在文件夹之间跳转并不容易,而不必显示完整的文件夹层次结构。

新的使用过滤器

Assets窗口中有很多不同的内容,这些使用是过滤内容隔离特定资源的好方法。要选择特定用途,只需单击专用按钮。要添加或删除多个用法,请在单击按钮的同时按住CTRL。

改进的缩略图渲染

我们花时间重新设计了我们的缩略图生成系统,以提高它们的质量并使它们在整个生态系统中看起来更加一致。我们还添加了位移的支持。

从档案(sbsar)

加载缩略图嵌入在文件中的自定义缩略图不会加载并显示在“资产”窗口中。共享自定义资源现在更容易,因为不需要包含自定义图标的资源元数据。

改进的性能

缩略图的加载和生成时间在几个方面得到了改进,现在应该快得多。

增加预览内存预算以加载更多缩略图

默认情况下,有限的内存分配给缩略图显示以节省性能。然而,拥有包含许多资源的库会导致不断加载和卸载缩略图,从而使导航和搜索资源变得困难。现在有一个新的环境变量来覆盖默认预算值。

2、新的工作流程

添加了一个名为(ASM)的新着色器,它同时支持多种功能,允许在单个纹理集中构建更复杂和准确的材质。有了这个新的着色器,我们还借此机会添加了新的通道,使材质的创建也更容易。

新的材质着色器

新的ASM着色器是一种重新组合多种功能以及我们的Pp渲染演变的着色器。它同时支持:

各向异性

清漆

光泽

镜面边缘颜色

其他次表面散射方法

当然还有其他现有的特征,如视差遮挡、位移等。

新通道和用户通道

为了支持新的ASM着色器,添加了新通道。我们还将用户通道的数量增加了一倍,以扩展自定义信息和自定义着色器的可能性。

外套颜色

涂层粗糙度

大衣正常

涂层不透明度

涂层镜面反射级别

散射色

光泽颜色

光泽粗糙度

光泽不透明度

镜面边缘颜色

8到15个用户通道

改进的纹理集设置纹理集设置中

的通道列表菜单现在将通道分组,而不是与当前着色器的兼容性。这有助于确定哪些通道将在视口中产生效果。

具有可见if和重新编译的新着色器API功能

随着ASM着色器的开发,API中的一些更改具有两个显着的功能:

Visible If:可以根据条件显示或隐藏着色器参数,使着色器UI更易于阅读。

重新编译:通过以特定方式声明参数,现在可以禁用部分着色器并在参数更改时重新编译以对其进行优化。这允许丢弃未使用的功能。

3、新的生态系统交换

通过这个新的工作流程,在应用程序之间发送资源和资产现在变得更加容易和访问。现在可以从文件,或者非常轻松地将项目发送到以快速迭代内容。

此发送和接收功能仅可通过应用程序的Creative Cloud桌面版本使用,因为它依赖于特定技术来实现。这意味着Steam或独立版本不支持这些功能。

使用更新的导出预设从导出到Stager,或使用发送到操作自动将当前项目导出和导入到Stager。无需手动配置。

Stager to

通过类似的一键操作直接从Stager接收模型到纹理。

Designer或Sampler to

一键从Designer或Sampler直接接收材质、过滤器等到“资产”窗口。

到的资产

从Creative Cloud桌面直接将材料等内容接收到的资产窗口中。

位于由管理的库中的资源窗口中的pidge资源中显示可以通过使用特定资源上的右键单击菜单直接在pidge中打开。

4、新内容

此版本中添加了新内容:

(ASM)的新项目模板

为了更轻松地开始使用新的ASM着色器,我们创建了新的项目模板以加快项目创建速度:

ASM-Pp金属粗糙度

ASM-Pp金属粗糙度各向异性角

ASM-Pp金属粗糙度涂层

ASM-Pp金属粗糙度SSS

ASM-Pp金属粗糙度光泽

新环境贴图添加了

几个新环境贴图来照亮您的项目,包括用于渲染新资产缩略图的Studio 06:

内部的:

工作室

工作室:

工作室06

80年代工作室恐怖片A

Studio Black Soft

工作室白软

Studio白色伞

5、改进的自动UV展开

添加了自动UV展开的新更新,它带来了对UV平铺的支持和对UV生成的额外控制:

UV平铺数量

生成UV时,现在可以指定希望创建的最大UV平铺数量。这也允许在UV平铺工作流程中使用UV生成。

UV岛方向

添加了ew参数以在打包时添加对UV岛方向的约束。这允许使UV岛更加对齐,从而可以更轻松地对某些对象进行纹理处理(例如:木门以对齐木纹图案)。

改进的打包性能

打包功能也得到了改进,以通过新的UV Tile支持提供良好的性能。

6、一般改进

这个新版本增加了几项生活质量改进:

使用图形输入板的笔改进滑块性能使用笔

在滑块周围拖动现在应该更加灵敏。滑块不应再有粘性。

使用已绘制的图层改进性能使用

大量现有画笔笔触在图层中绘制现在应该快得多并且不再导致减速。

打开项目后更快的绘画现在在打开项目

后立即在图层堆栈顶部的图层上绘画。引擎缓存计算已推迟到以后,在这种情况下,旧项目的重新版本会更快一些。

Sharp normal method

纹理集设置中有一个新的Height to Normal方法参数,它允许控制高度通道如何转换为法线贴图。这个新参数可用于提高具有许多不同细节的表面质量,例如织物材料。

新的界面样式

通用界面已略作调整,以更好地与通用生态系统保持一致。这使得从一个应用程序跳转到另一个应用程序不那么令人惊讶并且更容易导航。

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